Mohamed Boumerzoug: шукати на сайті Z-Library

Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024 Про збір коштів

Найбільша колекція наукових статей у сіті. 70,000,000+ безкоштовних статей.

Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024

Z-Library - одна з найбільших онлайн-бібліотек у світі, в якій зберігається більше 17,000,000 книг та 84,837,000 статей. Ми намагаємось зробити літературу доступною кожному. Сьогодні (15 вересня 2024) ми відкриваємо додатковий збір пожертвувань на підтримку та розвиток проекту.

Також БЕЗЛІМТНІ завантаження (протягом 31 дня після завершення пожертвування) доступні для ВСІХ користувачів, які підтримають проект в період збору коштів до 1 жовтня 2024.

Про збір коштів Детальніше

Підтримати

Книги
Статті (19)
Найпопулярніші
Перелік
- Перелік
- Таблиця

1

[IEEE 2010 21st Annual IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC) - San Francisco, CA, USA (2010.07.11-2010.07.13)] 2010 IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC) - A new plasma ash method to prevent resist from flowing into contact and via holes

Boumerzoug, Mohamed, Parker, John

Рік:

2010

Мова:

english

Файл:

PDF, 707 KB

english, 2010

2

[IEEE 2014 25th Annual SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC) - Saratoga Springs, NY (2014.5.19-2014.5.21)] 25th Annual SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC 2014) - Multivariate method for the monitoring of etch chamber insitu cleaning

Boumerzoug, Mohamed, Promreuk, Suradej

Рік:

2014

Мова:

english

Файл:

PDF, 226 KB

english, 2014

3

[IEEE 2014 25th Annual SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC) - Saratoga Springs, NY (2014.5.19-2014.5.21)] 25th Annual SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC 2014) - Optimized BARC films and etch byproduct removal for wafer edge defectivity reduction

Boumerzoug, Mohamed

Рік:

2014

Мова:

english

Файл:

PDF, 226 KB

english, 2014

4

[IEEE 2016 27th Annual SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC) - Saratoga Springs, NY, USA (2016.5.16-2016.5.19)] 2016 27th Annual SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC) - A solvent free method for post pad etch wafer cleaning

Boumerzoug, Mohamed

Рік:

2016

Мова:

english

Файл:

PDF, 395 KB

english, 2016

5

In-situ monitoring of electron cyclotron resonance plasma chemical vapour deposition of hydrogenated silicon nitride films

Mohamed Boumerzoug, Roman V. Kruzelecky, Peter Mascher, David A. Thompson

Журнал:

Surface and Coatings Technology

Рік:

1993

Мова:

english

Файл:

PDF, 472 KB

english, 1993

6

Void formation at silicon nitride/silicon interfaces studied by variable-energy positrons

Andrzej Halec, Peter J. Schultz, Marcel Boudreau, Mohamed Boumerzoug, Peter Mascher, John P. McCaffrey, T. E. Jackman

Журнал:

Surface and Interface Analysis

Рік:

1994

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.22 MB

english, 1994

7

Optical emission spectroscopy as a real time diagnostic tool for plasma-assisted deposition of TiN

Mohamed Boumerzoug, Marcel Boudreau, Peter Mascher

Журнал:

Plasma Chemistry and Plasma Processing

Рік:

1997

Мова:

english

Файл:

PDF, 551 KB

english, 1997

8

[IEEE 2010 21st Annual IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC) - San Francisco, CA, USA (2010.07.11-2010.07.13)] 2010 IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC) - Generalized linear models for defectivity related regression modeling

Boumerzoug, Mohamed

Рік:

2010

Мова:

english

Файл:

PDF, 403 KB

english, 2010

9

Optical and electrical properties of electron cyclotron resonance chemical vapour-deposited SiN x :H films

Boudreau, Marcel, Boumerzoug, Mohamed, Kruzelecky, Roman V., Mascher, Peter, Jessop, Paul E., Thompson, David A.

Журнал:

Canadian Journal of Physics

Рік:

1992

Файл:

PDF, 490 KB

1992

10

Electron cyclotron resonance chemical vapor deposition of silicon oxynitrides using tris(dimethylamino)silane

Boudreau, Marcel, Boumerzoug, Mohamed, Mascher, Peter, Jessop, Paul E.

Журнал:

Applied Physics Letters

Рік:

1993

Мова:

english

Файл:

PDF, 613 KB

english, 1993

11

Low-temperature electron cyclotron resonance chemical vapor deposition of very low resistivity TiN for InP metallization using metalorganic precursors

Boumerzoug, Mohamed, Mascher, Peter, Simmons, John G.

Журнал:

Applied Physics Letters

Рік:

1995

Мова:

english

Файл:

PDF, 336 KB

english, 1995

12

Room temperature electron cyclotron resonance chemical vapor deposition of high quality TiN

Boumerzoug, Mohamed, Pang, Zhengda, Boudreau, Marcel, Mascher, Peter, Simmons, John G.

Журнал:

Applied Physics Letters

Рік:

1995

Мова:

english

Файл:

PDF, 253 KB

english, 1995

13

Electrical characterization of rf sputtered TiN thin films on III–V semiconductors

Pang, Zhengda, Boumerzoug, Mohamed, Kruzelecky, Roman V., Mascher, Peter, Simmons, John G., Thompson, David A.

Журнал:

Canadian Journal of Physics

Рік:

1992

Файл:

PDF, 339 KB

1992

14

Electron Cyclotron Resonance Plasma Chemical Vapour Deposition of Silicon Carbide Thin Films Using Ditertiary Butyl Selane

Boumerzoug, Mohamed, Boudreau, Marcel, Mascher, Peter, Jessop, Paul E.

Журнал:

MRS Proceedings

Рік:

1994

Мова:

english

Файл:

PDF, 325 KB

english, 1994

15

Thermal Stability of Reactively Sputtered TiN on InP as a Diffusion Barrier

Pang, Zhengda, Boumerzoug, Mohamed, Kruzelecky, Roman V., Mascher, Peter, Simmons, John G.

Журнал:

MRS Proceedings

Рік:

1992

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.42 MB

english, 1992

16

Removal of Titanium Oxide Grown on Titanium Nitride and Reduction of VIA Contact Resistance using a Modern Plasma Asher

Boumerzoug, Mohamed, Xu, Han, Bersin, Richard, Mascher, Peter, Balcaitis, Ginutis

Журнал:

MRS Proceedings

Рік:

1997

Мова:

english

Файл:

PDF, 2.20 MB

english, 1997

17

The Stability of Reactively Sputtered WNx Thin Films on III-V Semiconductors

Pang, Zhengda, Boumerzoug, Mohamed, Mascher, Peter, Simmons, John G.

Журнал:

MRS Proceedings

Рік:

1994

Мова:

english

Файл:

PDF, 936 KB

english, 1994

18

SPIE Proceedings [SPIE Photonics West '95 - San Jose, CA (Wednesday 1 February 1995)] Laser Diodes and Applications - Optical characterization of passivation for high-power AlxGa1-xAs-based lasers

Koutzarov, Ivoil P., Ruda, Harry E., Edirisinghe, Chandima D., Jedral, Lech Z., Liu, Qiang, Moore, Alan H., Henderson, Richard, Boudreau, Marcel G., Boumerzoug, Mohamed, Mascher, Peter, Linden, Kurt J

Рік:

1995

Мова:

english

Файл:

PDF, 528 KB

english, 1995

19

SPIE Proceedings [SPIE Process Module Metrology, Control and Clustering - San Jose, United States (Wednesday 11 September 1991)] Process Module Metrology, Control and Clustering - Optical emission spectroscopy as a process monitor for triod ion plating with TiN

Boumerzoug, Mohamed, Mascher, Peter, Nagy, Douglas R., Davis, Cecil J., Herman, Irving P., Turner, Terry R.

Рік:

1992

Мова:

english

Файл:

PDF, 501 KB

english, 1992